PRODUCT產品指南

  • 基板

徹底更換模組,連細部都更加優異的設備!

濕蝕刻機具 DES產線

MACHINERY

此產線可處理顯像、蝕刻、剝離處理。以敝公司開發的旋轉噴霧器(邊旋轉噴頭邊噴灑藥水)進行顯像、蝕刻,即使是細小圖案也能達到高蝕刻係數。藥水有CuCl2、FeCl3、鹼液等。

徹底更換模組,連細部都更加優異的設備。從厚板到極薄板都能以高精準度與可靠度形成超細微圖案。另外將各機具模組化後,也能簡化附設裝置,大幅降低成本。

  • 轉軸系統
    由於液體總是垂直滴落,因此可以避免側蝕。另外旋轉的離心力能讓液體向外流動,能夠迅速排掉液體。擁有優秀的均勻效果。